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Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses
Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology
Borst, Christopher Lyle/Gill, William N/Gutmann, Ronald J
Springer Verlag GmbH
160,49 €
(inklusive MwSt.)
Lieferbar
Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses
Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology
Borst, Christopher Lyle/Gill, William N/Gutmann, Ronald J
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