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Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses

Cover von Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses

Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology

Borst, Christopher Lyle/Gill, William N/Gutmann, Ronald J

Springer Verlag GmbH

160.49

(inklusive MwSt.)

Verfügbarkeit: Besorgungstitel, Festbezug

Weitere Details

Erschienen: 30.09.2002

Umfang: xiv, 229 S.

Sprache: ENG

Einband: GEB

ISBN/EAN: 9781402071935

Umbreit-Nr.: 1625012

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